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    溅射镀膜设备的靶中阴极和接地屏蔽极的配置<%=id%>

    BR>. 本发明涉及一种溅射镀膜设备的靶(100),此靶包括在其一个表面上配置有溅射料(58)的阴极(56)和接地屏蔽极(84),接地屏蔽极包围阴极的除开配置溅射靶材料,并由于有一间隙(96)而与其中的阴极形成电绝缘.外周边形片(90)装在具有靶材料外周边缘部分(66)上,形成一连续的外周凸缘(94),以防止散落的被溅射材料的碎屑防止阴极和接地屏蔽极之间发生短路.
    . 主权项  .
    . 一种溅射镀膜设备的靶,此靶包括一细长的阴极、溅射的靶材料和一接地屏蔽极,溅射的靶材料配置在该设备一侧的阴极上的一个外表面上,接地屏蔽极使阴极被配置在其中并包括包围阴极的壁,上述接地屏蔽极包围阴极的除上述一个外表面以外的所有表面,在上述这一外表面上,接地屏蔽极是敞开的,使得上述的靶材料被露出来,上述阴极和接地屏蔽极彼此由一其间确定的间隙分开,并在电学上绝缘,靶的特征在于安装在阴极(56)的上述外表面(60)上的外周边缘部分(66)上的,形成一连续的外周凸缘(94)的装置(90),此外周凸缘侧向向外凸出,超过上述外周边缘部分(66)并凸出在上述间隙(96)之外,而且接地屏蔽极(84)的上述壁(88)的相邻边缘(86)与其成分离的状态。
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