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    SiO2成型体、其制造方法及其用途<%=id%>
    ljs/images/line.gif" width=1>..

    主分类号: 　.. .C03B20/00(2006.01)I.. 范畴分类: 　.. ...

    ..

    分类号: 　.. .C03B20/00(2006.01)I;C03B19/06(2006.01)I;B28B1/26(2006.01)I;C04B35/14(2006.01)I..

    ..

    优先权: 　.. .2003.8.28 DE 10339676.4..

    ..

    申请（专利权）人: 　.. .瓦克化学股份公司..

    ..

    地址: 　.. .德国慕尼黑..

    ..

    发明（设计）人: 　.. .弗里茨·施韦特费格..

    ..

    国际申请: 　.. .2004-08-19 PCT/EP2004/009318..

    ..

    国际公布: 　.. .2005-03-31 WO2005/028385 德..

    ..

    进入国家日期: 　.. .2006.02.16..

    ..

    专利代理机构: 　.. .永新专利商标代理有限公司..

    ..

    代理人: 　.. .过晓东..

    ..

    分案申请号: 　.. ... 国省代码: 　.. .德国;DE..

    ..

    颁证日: 　.. ... 光盘号: 　.. .D0638-1..

    ..

    摘要: 　..

    ..

    本发明涉及非晶多孔的开孔SiO2成型体，其特征在于，该SiO2成型体由两层组成，这些层具有相同结构和组成。 　..

    ..

    主权项: 　..

    ..

    1、非晶多孔的开孔SiO2成型体，其特征在于，该SiO2成型体由两层组成，这些层具有相同结构和组成。 ..

    ..



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