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    正性双层压印光刻法及其所用组合物<%=id%>

    8920
    国. 际. 公. 布:. 2004-10-14 WO2004/088414 英 进入国家日期:. 2005.09.26
    专利 代理 机构:.. 上海专利商标事务所有限公司. 代.. 理.. 人:. 朱黎明
    .
    . 摘要 .
    .本发明提供了在基片上成图的方法和组合物,其特征在于通过在基片上形成具有突起和凹陷图案层的成图层来产生多层结构。在成图层上形成的是保形层,多层结构具有背向基片的冠形表面。多层结构的一些部分被除去,露出基片上正对突起的区域,同时在冠形表面正对凹陷的区域形成硬掩模。
    . 主权项  .
    .1.对基片成图的方法,所述方法包括: 在所述基片上形成具有一定形状的成图层; 将所述形状的反形状转移到所述基片上。.
    .
    中国科技资讯网
    .
         

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