聚硅氧烷薄层的生产方法，薄层聚硅氧烷及其应用<%=id%>

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申请(专利权)人：.. 德国胡塔玛基股份有限两合公司胡塔玛基福希海姆分公司.
地......... 址：. 德国福希海姆
发明 (设计)人：. 约瑟夫·穆勒;瓦尔特·冈特;迈克尔·鲍尔;库尔特·施塔克. 国. 际申请：..
国. 际. 公. 布：.. 进入国家日期：..
专利代理机构：.. 中原信达知识产权代理有限责任公司. 代.. 理.. 人：. 郭国清樊卫民
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. 摘要　.
.一种生产可挤出聚硅氧烷薄层的方法，其中挤出该聚硅氧烷层。本发明中聚硅氧烷层可挤出到基质层上，或聚硅氧烷层与基质层一起从挤出模头中挤出。
. 主权项　.
.1.一种生产可挤出聚硅氧烷薄层的方法，其中挤出该聚硅氧烷层。.
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中国科技资讯网
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