用于深UV的光刻胶组合物及其成像方法<%=id%>

P2004/004867
国. 际. 公. 布：. 2004-11-25 WO2004/102272 英进入国家日期：. 2005.11.16
专利代理机构：.. 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所. 代.. 理.. 人：. 刘明海
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. 摘要　.
.本发明涉及一种对深紫外区辐射敏感的新型光刻胶组合物，尤其在 100-300nm范围内敏感的正性作用光刻胶，及其使用方法。光刻胶组合物包含：a)在含水碱性溶液中不可溶且包含至少一种酸不稳定性基团的聚合物，和进一步其中所述聚合物包含至少一种脂环族烃单元，至少一种环状酸酐，至少一种具有结构(1)的丙烯酸酯单元，和至少一种具有结构(2)的丙烯酸酯单元：其中，R’和R独立地是H或(C1-C4) 烷基；R1是侧向环状内酯，和，R2是侧向非内酯脂族烃结构部分，b)能够在照射时产生酸的化合物或化合物混合物。本发明进一步涉及包含戊内酯的溶剂作为用于光敏材料的溶剂的用途。优选，溶剂是γ-戊内酯。该溶剂可与一种或多种另外的光刻胶溶剂混合。
. 主权项　.
.1.一种光刻胶组合物，其包含以下物质的掺混物： a)在含水碱性溶液中不可溶且包含至少一种酸不稳定性基团的聚合物，和进一步其中所述聚合物包含至少一种脂环族烃单元，至少一种环状酸酐，至少一种具有结构1的丙烯酸酯单元，和至少一种具有结构 2的丙烯酸酯单元：其中， R和R’独立地是H或(C1-C4)烷基； R1是侧向内酯， R2是侧向非内酯脂族烃结构部分；和， b)能够在照射时产生酸的化合物或化合物混合物。.
中国科技资讯网
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