具有重叠阶梯状凹槽排列的化学机械抛光垫<%=id%>

际. 公. 布：.. 进入国家日期：..
专利代理机构：.. 上海专利商标事务所有限公司. 代.. 理.. 人：. 陈文青
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. 摘要　.

.一种抛光垫(104，300)，具有环形抛光轨迹(152，320)和凹槽(112，304)的大量组(160，308)，这些凹槽绕着该抛光垫的旋转中心(128)以圆周方式重复。每个组中的大量凹槽都以偏移和重叠方式沿着轨线(164，312)排列，从而在该环形抛光轨迹中提供大量重叠阶梯(172，316)。这些组可以以彼此间隔或嵌套的关系排列。
. 主权项　.
.1.一种抛光垫，它包括： a)抛光层，构造成在抛光介质存在条件下，能抛光至少一个磁性、光学或半导体基片的表面，该抛光层包括旋转轴以及与该旋转轴同心的环形抛光轨迹； b)形成在抛光层中的大量凹槽，这些凹槽排列成许多组，各组都沿着通过该环形抛光轨迹延伸的轨线排列，其中，在各组中大量凹槽中的任意凹槽都在该环形抛光轨迹中形成重叠的阶梯状图案。.
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