在光学器件中使用的含苯并三唑的新聚合物<%=id%>

99285 英进入国家日期：. 2005.11.04
专利代理机构：.. 中国专利代理(香港)有限公司. 代.. 理.. 人：. 刘维升赵苏林
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. 摘要　.
.本发明涉及含苯并三唑重复单元的聚合物。含本发明聚合物的光学器件在色纯度、器件效率和/或使用寿命上可以表现出显著的优点。此外，所述聚合物具有良好的溶解度特性以及相对高的玻璃转化温度，这有助于将它们制备成相对薄的、热稳定的和相对没有缺陷的涂层和薄膜。
. 主权项　.
.1.包含下式重复单元的聚合物或其中 x和y相互独立地是0或1， X1和X2互相独立地是二价连接基， Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7和Ar8互相独立地是可以任选被取代的芳基或杂芳基，尤其是可以任选被取代的C6-C30芳基或C2-C26 杂芳基。.
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