有机材料高能X射线聚焦组合透镜及其制作<%=id%>

分类号： H05G1/00
颁证日：
优先权：
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
地址： 130022吉林省长春市人民大街140号
发明 (设计)人：梁静秋;乐孜纯
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：长春科宇专利代理有限责任公司
代理人：梁爱荣
摘要
　本发明涉及有机材料高能X射线聚焦组合透镜及制作，包括衬底基片1，有机物透镜阵列2，电铸阴极薄膜3，掩模吸收体4，空气隙5。衬底基片表面涂覆有机材料涂料，固化，上表面生长金属薄膜作为电铸阴极，电铸阴极上表面涂覆光刻胶，光刻、显影、坚膜、生长金属层作为附着式掩膜吸收体，去除光刻胶及其下面的金属薄膜，用准分子激光准直光束直接刻蚀，完成有机材料高能X射线聚焦组合透镜的制作。本发明由若干平凹折射单元排列组成。采用准分子激光刻蚀技术，使器件深宽比大，侧壁陡直，尺寸精度高，表面粗糙度低，可制作各种几何形状的截面，易于批量制作及微小型化。用有机材料可降低成本，简化工艺，推动以非金属材料为主体的微结构光学元件的技术发展。
主权项
　权利要求书 1、有机材料高能X射线聚焦组合透镜，它包括：空气隙(5)，其特征在于：还包括有衬底基片(1)、有机物透镜阵列(2)、电铸阴极薄膜(3)、掩模吸收体(4)，有机物透镜阵列(2)位于衬底基片 (1)的上方并与衬底基片(1)接触，电铸阴极薄膜(3)位于有机物透镜阵列(2)的上方并与有机物透镜阵列(2)接触，掩模吸收体 (4)位于电铸阴极薄膜(3)的上方并与电铸阴极薄膜(3)接触，由衬底基片(1)、有机物透镜阵列(2)、电铸阴极薄膜(3)、掩模吸收体(4)形成空气隙(5)。

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