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用于粘合的陶瓷元件的生产方法,用于粘合的陶瓷元件,真空开关,和真空容器<%=id%> |
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号:
分 类 号:
H05K1/00;H01H33/00
颁 证 日:
优 先 权:
2001.10.5 JP 310026/2001
申请(专利权)人:
日本特殊陶业株式会社
地 址:
日本爱知县
发 明 (设计)人:
牧野友亮
国 际 申 请:
国 际 公 布:
进入国家日期:
专利 代理 机构:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代 理 人:
邓毅
摘要
一种用于粘合的陶瓷元件的生产方法,该方法包括:如下方式的第一步骤:使用第一混合物制备下层膏体,第一混合物包括镍、钨和钼,将下层膏体涂敷到为烧结陶瓷的陶瓷基础物表面上,和在涂敷之后干燥获得的涂料层以形成下层;如下方式的第二步骤:使用第二混合物制备上层膏体,第二混合物包括镍和氧化镍中的一种和铜、氧化铜、锰和氧化锰中的至少一种,将上层膏体涂敷到下层上,和在涂敷之后干燥获得的涂料层以形成上层;和如下方式的第三步骤:加热下层和上层以焙烧下层和上层。
主权项
权利要求书
1.一种用于粘合的陶瓷元件的生产方法,该方法包括:
如下方式的第一步骤:使用第一混合物制备下层膏体,第一混合
物包括镍成分、钨成分和钼成分,将下层膏体涂敷到为烧结陶瓷的
陶瓷基础物表面上,和在涂敷之后干燥获得的涂料层以形成下层;
如下方式的第二步骤:使用第二混合物制备上层膏体,第二混合
物包括镍成分和氧化镍成分中的一种和铜成分、氧化铜成分、锰成
分和氧化锰成分中的至少一种,将上层膏体涂敷到下层上,和在涂
敷之后干燥获得的涂料层以形成上层;和
如下方式的第三步骤:加热下层和上层以焙烧下层和上层。
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