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    集成光学装置及其形成方法<%=id%>

    颁 证 日:
    优 先 权:
    申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
    地 址: 美国纽约州
    发 明 (设计)人: A·K·加德卡瑞;K·P·加德卡瑞
    国 际 申 请: CT/US00/18860 2000.7.11
    国 际 公 布: WO01/14916 英 2001.3.1
    进入国家日期: 2002.02.22
    专利 代理 机构: 上海专利商标事务所
    代 理 人: 钱慰民
    摘要
      通过将材料层沉积在负膨胀基底(100)上,形成处于与基底(100)之间机械张力中的波导(120),而制造集成平面布拉格光栅。然后在波导(100)中形成布拉格光栅(200)。随着波导(120)温度的增加,波导(120)和基底(100)之间的机械张力减小,使得布拉格光栅(200)的峰值反射波长几乎保持为常量。
    主权项
      权利要求书 1.一种温度变化的环境中所用的集成布拉格光栅的形成方法,其特征在 于,所述方法包括以下步骤,这些步骤可以顺序或非顺序执行: 提供负膨胀基底; 通过在所述负膨胀基底上交替沉积材料并减小所述材料中的应力,而在所 述负膨胀基底上形成波导;和 在所述波导中形成布拉格光栅,所述布拉格光栅具有峰值反射波长,其中, 所述波导和所述负膨胀基底具有膨胀失配系数,选择该系数以大体补偿由温度 变化引起的所述峰值反射波长的移动。
         

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