用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂和处理光致抗蚀剂层的方法<%=id%>

分类号： G03F7/42;H01L21/027;C11D7/50
颁证日：
优先权： 1999.12.24 KR 1999/62169
申请(专利权)人：三星电子株式会社;克拉里安特国际有限公司
地址：韩国京畿道
发明 (设计)人：朴弘植;周振豪;李有京;姜圣哲;吴世泰
国际申请： CT/KR00/01429 2000.12.8
国际公布： WO01/48555 英 2001.7.5
进入国家日期： 2002.06.24
专利代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：张平元;范明娥
摘要
　本发明提供一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括50到80重量％的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。该稀释剂既对人类无毒害，也不对生态带来不利影响，而且没有不适的气味。其废液和与之相关的废水容易处理，由此使得这种稀释剂对环境友好。本发明的光致抗蚀剂稀释剂具有优异的冲洗能力。
主权项
　权利要求书 1、一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括： 50到80重量％的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。

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