5-亚甲-1,3-二恶茂烷-4-酮诱导体、重合体、化学增幅型抗蚀组成物及形成方法<%=id%>

D317/34;C07D317/72;C07D319/06;C07D319/08;C07D325/00;C09D199/00;C09D5/08
颁证日：
优先权： 2001.10.23 JP 2001－324824;2002.1.15 JP 2002－6354;2002.5.31 JP 2002－159847;2002.8.1 JP 2002－225066
申请(专利权)人：三菱丽阳株式会社
地址：日本东京都
发明 (设计)人：安齐龙一;加门良启;藤原匡之;桑野英昭
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：北京集佳专利商标事务所
代理人：王学强
摘要
　本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器石印及电子线石印等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。
主权项
　权利要求书 1.具有下述通式(1)表示的5-亚甲-1，3-二恶茂烷-4-酮诱导体其中，R1表示4～16碳的桥连环烃和含4～16碳的桥连环烃的 1～6碳直链或分支烷基， R2表示氢原子和1～6碳直链或分支烷基， R1和R2相结合可以形成4～16碳的桥连环烃，所述烷基、所述桥连环烃可以是1～6碳的直链或分支烷基，甚至含有羟基、羧基、2～6碳的酰基、1～6碳的烷氢基和1～6碳的乙醇和被酯化的羧基。

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