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    一种用于直拉硅单晶制备中的掺杂方法及其装置<%=id%>


    分 类 号: C30B15/04
    颁 证 日:
    优 先 权:
    申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司
    地 址: 100088北京市新街口外大街2号
    发 明 (设计)人: 屠海令;秦福;周旗钢;张果虎
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 北京元中专利事务所
    代 理 人: 母宗绪
    摘要
      本发明涉及生产硅单晶棒的掺杂方法及设备,是一种用于直拉硅单晶制备中的掺杂的方法及装置,用于直拉硅单晶的掺杂。将待掺杂的元素置于掺杂装置的内筒中,将带有盛放着掺杂元素内筒的掺杂装置,下降到多晶硅熔体的液面上,在石英坩埚的旋转下,使被掺杂的元素挥发完全,使石英坩埚继续旋转所需时间,安装上特定晶向的籽晶进行单晶硅棒的拉制。应用本发明的气相掺杂法解决了已有技术中掺杂效率低的技术问题。提高了掺杂效率,减少了回熔次数;本发明的掺杂装置由钟罩、吊钩、内筒所组成,使得本发明的掺杂方法得以实现。
    主权项
      权利要求书 1、一种用于直拉硅单晶制备中的掺杂方法,其特征在是: 1)将所要掺杂的需要量的掺杂元素,置于掺杂装置的内筒中; 2)将带有内筒的掺杂装置悬挂在晶体提拉舱室中,抽真空,晶 体提拉舱室和晶体生长室中充入氩气; 3)将原料多晶硅熔化,多晶硅熔化后,在石英坩埚旋转的条 件下,将带有盛放着掺杂元素内筒的掺杂装置,下降至多晶硅 熔体的液面上; 4)待被掺杂的元素挥发完全后,盛有硅熔体的石英坩埚继续旋 转所需要的时间; 5)将带有内筒的掺杂装置提升到晶体提拉舱室中,关闭晶体提 拉舱室与晶体生长室之间的隔离阀,向晶体拉舱室中充入氩气, 使氩气的压力为1.1×105Pa,打开晶体提拉舱室的门,安装上 特定晶向的籽晶, 6)将晶体提拉舱中的压力抽至晶体生长室的压力,开启隔离 阀,进行单晶硅棒拉制。
         

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