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    一种提高直拉硅单晶棒中氧含量的方法及增氧器<%=id%>


    分 类 号: C30B15/04
    颁 证 日:
    优 先 权:
    申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司
    地 址: 100088北京市新街口外大街2号
    发 明 (设计)人: 屠海令;周旗钢;张果虎;戴小林;吴志强
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 北京元中专利事务所
    代 理 人: 母宗绪
    摘要
      本发明涉及一种生产单晶硅棒时,提高掺杂氧的方法及装置。为一种提高直拉硅单晶棒中氧含量的方法及增氧器。可用于增加直拉法硅单晶中的氧含量。本法是用石英制的增氧器置于石英坩埚的底部,在增氧器上加入多晶硅,在加热熔化多晶硅时,增氧器与石英坩埚熔接在一起,增氧器在整个硅单晶拉制过程中,保持在硅熔体中。所说的增氧器为石英制的圆台状体、圆柱状体、圆形环状体其中的一种。本法增加了直拉硅单晶中的氧含量,不破坏氧在沿晶体直径方向的分布,不产生过度的晶体缺陷。多晶硅可为块状,也可以是小颗粒状。增氧器结构简单,易于制作,增加含氧量的效果显著。
    主权项
      权利要求书 1.一种提高直拉硅单晶棒中氧含量的方法,其特征是,先将用石 英制成的增氧器(2),置于石英坩埚(16)的底部,在增氧器(2)上 加入作为原料的多晶硅,在加热作为原料的多晶硅熔化过程中,增氧器 与石英坩埚的内壁熔接在一起,石英制的增氧器在整个硅单晶拉制过程 中保持在硅熔体中,石英制的增氧器的石英表面增大了石英材料表面与 融熔硅的表面接触,更多的原子态的氧进入硅熔体中,增大了硅单晶棒 中的氧含量。
         

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