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    新版光罩的验证方法<%=id%>


    颁 证 日:
    优 先 权:
    申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
    地 址: 台湾省新竹科学工业园区力行路16号
    发 明 (设计)人: 林明裕;陈威铭;周宗贤;吴满堂
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 北京集佳专利商标事务所
    代 理 人: 王学强
    摘要
      一种新版光罩的验证方法,此方法是提供一晶元,将一新版光罩的图案转移于晶元上,以在晶元上形成一第一图案后,再将一旧版光罩的图案转移于晶元上,以在晶元上形成一第二图案,然后,利用光学检验机对比晶元上的第一图案与第二图案,以验证新版光罩的正确性。
    主权项
      权利要求书 1.一种新版光罩的验证方法,其特征为:该方法包括: 提供一晶元; 将一新版光罩的图案转移于该晶元上,以在该晶元上形成一第一 图案; 将一旧版光罩的图案转移于该晶元上,以于该晶元上形成一第二 图案;以及 对比该第一图案与该第二图案,以验证该新版光罩的正确性。
         

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