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分 类 号：
G03F7/20
颁 证 日：
优 先 权：
申请(专利权)人：
旺宏电子股份有限公司
地 址：
台湾省新竹科学工业园区力行路16号
发 明 (设计)人：
洪齐元;张庆裕;吴义镳;郭权辉
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
北京集佳专利商标事务所
代 理 人：
王学强
摘要
本发明是有关于一种改善曝光机台的分辨率极限的方法，其是在一曝光机台中介于一光罩与一投射透镜的部分填入一透射物质，其中此透射物质的折射率大于1。由于此透射物质的折射率大于1，如此便可使光源产生的平行光在通过光罩后形成的绕射光的角度减小，以使大部分的绕射光接能射入投射透镜中，进而改善曝光机台的分辨率极限。
主权项
权利要求书
1.一种改善曝光机台的分辨率极限的方法，其特征为：包括下列
步骤：
提供一曝光机台，该曝光机台包括配置有一光源、一光罩与一投
射透镜，其中该光罩配置在该光源与该投射透镜之间；以及
在该光罩与该投射透镜之间填入一透射物质，其中该透射物质的
折射率大于空气的折射率。
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