一种纳米特性薄膜器件的制备方法<%=id%>

分类号： C23C14/54;G01B11/02;H01P1/20
颁证日：
优先权：
申请(专利权)人：复旦大学
地址： 200433上海市邯郸路220号
发明 (设计)人：陈良尧;李申初;谌达定;王松有;郑玉祥
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：上海正旦专利代理有限公司
代理人：陆飞
摘要
　本发明是一种纳米特性薄膜器件的制备方法。本方法采用高速动态光谱仪，对制备过程中的器件光谱特性随工艺的变化进行实时快速检测和分析。在1400-1600nm的红外通讯波段，实现以≤1秒时间和优于0.1nm的光谱分辨率，获得器件各膜层折射率、透射、反射、光谱带宽、线形和层厚等参数随工艺条件变化的关系，进而对影响薄膜器件特性的因素进行实时精确控制和调整。系统具有长时间工作的高可靠性和极好的纳米器件光谱数据的重复性。
主权项
　权利要求书 1、一种纳米特性薄膜器件的制备方法，其特征在于在薄膜制备的真空条件下，采用真空步进电机，将其置于真空腔内的上部，电机轴被加工成空心，将支撑薄膜器件的透明衬底固定安装在电机轴上，衬底面与电机轴垂直；采用细分步技术对电机的转速进行精确控制，使得样品作匀速旋转；真空室的顶部和底部装有纯石英光学窗口，对真空室隔离，并让探测光通过；薄膜蒸发源置于真空腔内的底部；探测光被样品透射后，从电机的空心轴穿过，从真空室顶部的石英窗口穿出；动态光谱分析仪安装在真空室外的顶部，对从样品出射的光谱进行快速检测和分析，将数据传至计算机分析，实时获得薄膜制备过程中薄膜的透射光谱特征等丰富信息，并反馈控制蒸发源的工作状态，实现对多层膜的厚度和特性的精确控制。

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