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分 类 号：
C23C16/40;C23C16/448
颁 证 日：
优 先 权：
2001.10.30 US 10/020471
申请(专利权)人：
夏普公司
地 址：
日本大阪市
发 明 (设计)人：
庄维佛;D·R·埃文斯
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代 理 人：
曾祥凌;黄力行
摘要
一种用于制备通过化学气相沉积方法形成的薄膜的前驱体的方法，其包括将ZCl4同H(tmhd)3溶剂和类如苯的烃溶剂混合，形成一种溶液(其中Z为一种从包含铪和锆在内的元素组中选取的元素)；将该溶液在氩气中回流12小时；藉助真空除去溶剂，从而产生一种固体化合物；将该化合物在0.1mm Hg的近真空状态和200℃下升华；还提出一种用于化学气相沉积方法的ZOx前驱体，其包括从包含ZCI(tmhd)3和ZCl2(tmhd)2在内的化合物组中选取的一种含Z化合物。
主权项
权利要求书
1.一种用于制备通过化学气相沉积方法形成的薄膜的前驱体的方
法，其包括：
将ZCl4同H(tmhd)3溶剂和烃溶剂混合形成一种溶液(其中，Z
为一种从包含铪和锆在内的元素组中选取的元素)；
在氩气中将该溶液回流12小时；
藉助真空除去溶剂，从而产生一种固体化合物；以及
在0.1mmHg的近真空状态和200℃下使该化合物升华。
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