曝光系统及其应用于彩色滤光片的曝光方法<%=id%>

分类号： G03F7/20;G02F1/136
颁证日：
优先权：
申请(专利权)人：奇美电子股份有限公司
地址：台湾省台南县
发明 (设计)人：王俊太;丁景隆
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：陈小雯;肖鹂
摘要
　本发明提供一种曝光系统，用来对一基板进行曝光，以形成数个液晶显示面板，该曝光系统包括有一光源、一光掩模以及一基座。其中该光源是用来产生一特定波长的光线，该光掩模上具有一预定图案并固定于该光源的下方，而该基座是用来以可移动方式承载该基板，以使该光掩模的该预定图案转移至该基板上的不同区域。其中当转移该预定图案至该基板上相对应于该数个液晶显示面板中的一液晶显示面板的位置时，该基座会带动该基板对该光掩模产生一相对性的移动，以使该光掩模上的预定图案得以转移至该基板上相对应于该液晶显示面板的位置的不同区域。
主权项
　权利要求书 1.一种步进式曝光系统，用来对一基板进行曝光，以形成数个液晶显示面板，该曝光系统包括有：一光源，用来产生一特定波长的光线；一光掩模，固定于该光源的下方，其具有一预定图案；以及一基座，用来以可移动方式承载该基板，以使该光掩模的该预定图案转移至该基板上的不同区域；其中当转移该预定图案至该基板上相对应于该数个液晶显示面板中的一液晶显示面板的位置时，该基座会带动该基板对该光掩模产生一相对性的移动，以使该光掩模上的该预定图案得以转移至该基板上相对应于该液晶显示面板的位置的不同区域。

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