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    一种高分子PTC热敏电阻器的制造及热处理方法<%=id%>


    分 类 号: H01C7/02;H01C17/00
    颁 证 日:
    优 先 权:
    申请(专利权)人: 上海维安热电材料股份有限公司
    地 址: 201206上海市浦东新金桥路201号401室
    发 明 (设计)人: 奉玉廷;候李明;王军;杨兆国
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 上海东亚专利代理有限公司
    代 理 人: 董梅
    摘要
      本发明涉及一种高分子PTC热敏电阻器的制造及热处理方法,高分子PTC热敏电阻器芯材配料、成片过程中,在工艺冲片、辐照后,将芯片先置于高分子聚合物熔点以上40~80℃的加热设备中,4~6小时,然后迅速将其转移至-20℃~-60℃的冷冻设备中使其迅速冷却1~2小时。本发明通过采用合适的高低温相结合的热处理工艺,有效地改善了PTC热敏电阻器中结晶性高聚物的结晶形态,可使晶粒变得细小而均匀,并使PTC热敏电阻器中导电填料、无机非导电填料、各种助剂在高聚物的基体中分布得更加均匀,提高了PTC热敏电阻的内部组成的均匀性,使得其各种性能如:室温电阻、耐流或耐压能力、耐流或耐压后的电阻变化率等更均一。提高了高分子PTC热敏电阻器性能的均匀性、一致性,进而提高了成品率。
    主权项
      权利要求书 1. 一种高分子PTC热敏电阻器的制造及热处理方法,高分子PTC 热敏电阻器芯材配料、成片及制成芯片的过程中,其特征在于在工 艺冲片、辐照后,将芯片先置于高分子聚合物熔点以上40~80℃的 加热设备中,4~6小时,然后迅速将其转移至-20℃~-60℃的冷冻设 备中使其迅速冷却1~2小时。
         

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