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一种高分子PTC热敏电阻器的制造及热处理方法<%=id%> |
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分 类 号:
H01C7/02;H01C17/00
颁 证 日:
优 先 权:
申请(专利权)人:
上海维安热电材料股份有限公司
地 址:
201206上海市浦东新金桥路201号401室
发 明 (设计)人:
奉玉廷;候李明;王军;杨兆国
国 际 申 请:
国 际 公 布:
进入国家日期:
专利 代理 机构:
上海东亚专利代理有限公司
代 理 人:
董梅
摘要
本发明涉及一种高分子PTC热敏电阻器的制造及热处理方法,高分子PTC热敏电阻器芯材配料、成片过程中,在工艺冲片、辐照后,将芯片先置于高分子聚合物熔点以上40~80℃的加热设备中,4~6小时,然后迅速将其转移至-20℃~-60℃的冷冻设备中使其迅速冷却1~2小时。本发明通过采用合适的高低温相结合的热处理工艺,有效地改善了PTC热敏电阻器中结晶性高聚物的结晶形态,可使晶粒变得细小而均匀,并使PTC热敏电阻器中导电填料、无机非导电填料、各种助剂在高聚物的基体中分布得更加均匀,提高了PTC热敏电阻的内部组成的均匀性,使得其各种性能如:室温电阻、耐流或耐压能力、耐流或耐压后的电阻变化率等更均一。提高了高分子PTC热敏电阻器性能的均匀性、一致性,进而提高了成品率。
主权项
权利要求书
1. 一种高分子PTC热敏电阻器的制造及热处理方法,高分子PTC
热敏电阻器芯材配料、成片及制成芯片的过程中,其特征在于在工
艺冲片、辐照后,将芯片先置于高分子聚合物熔点以上40~80℃的
加热设备中,4~6小时,然后迅速将其转移至-20℃~-60℃的冷冻设
备中使其迅速冷却1~2小时。
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