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层压膜的制造方法、用该层压膜的装置及其制造方法<%=id%> |
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颁 证 日:
优 先 权:
2001.10.30 JP 2001-332919
申请(专利权)人:
精工爱普生株式会社
地 址:
日本东京
发 明 (设计)人:
宫泽贵士
国 际 申 请:
国 际 公 布:
进入国家日期:
专利 代理 机构:
中科专利商标代理有限责任公司
代 理 人:
朱丹
摘要
本发明涉及一种电气光学装置的制造方法,其中,有机电致发光显示装置(1)是在基板(2)上层压低折射率层(3)、封装层(4)、阳极(8)、发光层(5)、空穴输送层(6)、阴极(7)等多层而形成的。之后,在形成这些层压层中的低折射率层(3)时,在基板(2)上涂布湿润凝胶之后,用超临界干燥法进行干燥。这种方法可以将材料层的化学、物理性质保持在所需的状态。
主权项
权利要求书
1.一种层压膜的制造方法,该层压膜包括多层,其特征在于:在形
成所述多层中的至少一个层的工艺中,至少一部分是在超临界条件
下进行的。
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