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形成电极间粘合结构的方法和电极间粘合结构<%=id%> |
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分 类 号:
H05K3/32;H01L21/60
颁 证 日:
优 先 权:
2001.10.29 JP 331122/2001;2002.3.11 JP 065894/2002
申请(专利权)人:
富士通株式会社
地 址:
日本神奈川
发 明 (设计)人:
作山诚树;今泉延弘;八木友久
国 际 申 请:
国 际 公 布:
进入国家日期:
专利 代理 机构:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代 理 人:
蒋世迅
摘要
一种形成电极间粘合结构的方法,包括步骤:树脂涂层形成在有第一电极部分的第一粘接物上,使树脂涂层覆盖第一电极部分。然后,在树脂涂层中形成开口以暴露第一电极部分。然后,在开口中填充含金属和树脂组分的金属膏。然后,第一粘接物放置在有第二电极部分的第二粘接物上,使开口中填充的金属膏面向第二电极部分,而树脂涂层接触第二粘接物。最后,利用加热处理,在使树脂涂层硬化的同时,它使第一粘接物与第二粘接物之间通过金属互相电路连接。
主权项
权利要求书
1.一种形成电极间粘合结构的方法,包括以下步骤:
形成树脂涂层在有第一电极部分的第一粘接物上,使树脂涂层覆
盖第一电极部分;
在树脂涂层中形成开口以暴露第一电极部分;
在开口中填充含金属的金属膏;
相对于有第二电极部分的第二粘接物放置第一粘接物,使开口中
填充的金属膏面向第二电极部分,而树脂涂层接触第二粘接物;和
利用加热处理,使第一粘接物和第二粘接物粘合,在使树脂涂层
硬化的同时,使第一电极部分与第二电极部分之间通过金属互相电连
接。
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