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    改进的集成光学装置<%=id%>

    证 日:
    优 先 权: 2000.2.7 GB 0002775.5
    申请(专利权)人: 格拉斯哥大学理事会
    地 址: 英国格拉斯哥
    发 明 (设计)人: 约翰·H·马什;西蒙·E·希克斯
    国 际 申 请: CT/GB01/00409 2001.1.31
    国 际 公 布: WO01/57565 英 2001.8.9
    进入国家日期: 2002.09.10
    专利 代理 机构: 北京市柳沈律师事务所
    代 理 人: 李晓舒;魏晓刚
    摘要
      本发明公开了一种改进的集成光学装置(5a-5g),该装置设有第一和第二装置(10a-10g;15a,15e),后者彼此光耦合并以第一和第二不同的材料体系制成,第一或第二装置(10a-10g;15a,15e)之一在第一与第二装置(10a-10g;15a,15e)之间的耦合区处或其附近具有量子势阱混杂(QWI)区(20a,20g)。第一材料体系可以是基于砷化镓(GaAs)或磷化铟(I )的III-V半导体,而第二材料体系可以是二氧化硅(SiO2)、硅(Si)、铌酸锂(Li O3)、聚合物,或玻璃。
    主权项
      权利要求书 1.一种集成光学装置,提供了第一和第二装置,二者彼此光耦合并用 第一和第二不同材料体系制成,第一或第二装置中至少一个在第一与第二 装置之间的耦合区处或其附近具有量子势阱混杂(QWI)区。
         

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