激光镀膜设备<%=id%>

所属分类：	激光	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院信息咨询中心	所在地域：	北京
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该设备被公认为制备新材料薄膜的最好方法之一。它具有以下主要优点：1、激光束功率密度极高，可蒸发任何高熔点材料。2、温度高，加热迅速，化合物材料中的各个万分能同时快速蒸发，因而使薄膜成分与蒸发材料的偏析小，成分几科相同。3、激光束的光斑可以做的很小，因而只是合蒸发材料局部受热汽化，大大减少了对膜层的污染。