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| 所属分类： |
激光 |
项目来源： |
自创 |
| 技术持有方姓名： |
深圳大学科技研究院光电子技术工程系 |
所在地域： |
广东 |
| 是否中介： |
否 |
是否重点项目： |
否 |
技术简介：
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二元光学技术是利用计算全息方法与大规模集成电路技术和微细加工技术相结合，在任意片基材料上制作出位相深度为2兀的、多台阶微浮雕结构的衍射微光学元件。二元光学元件以光的衍射为基本原理，具有微型化、轻型化、可复制、价格低，可设计产生任意开头的波前，可把多种功能集中于一个器件等其它器件不可比拟的特点。因此，发展迅速，成为九十年代的前沿学科之一。
我们在目前一般二元光学技术的基础上，发展一种新颖的、蚀刻位相深度超过2兀的、具有高深宽比的深蚀刻二元光学技术。
深蚀刻二元光学技术拓展了二元光学更加广阔的应用领域，用纵向的结构深度来换取横向的空间频率，提高深度比；将横向的对位误差部分转化为纵向深度误差（实验表明：深度误差相对容易控制）有利于提高元件制作精度。因此，该技术尤其在设计制作微小高能量密度元件，例如在制作fast宽带微透镜列阵、微型多道光谱分析中的分色透镜列阵等方面有特殊用途；不仅如此，该技术可广泛应用于光通讯、光互连、光计算机、光盘、各种激光束整形（非球面/球面）与聚焦、微扫描与列阵成像等众多高科技领域及产业，它与微电子、微机械相结合，形成二十一世纪高科技代表产品---集成光机电一体化芯片。 |
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