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所属分类: |
激光 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
同济大学 |
所在地域: |
上海 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
本项目的基本技术原理是根据靶的物理设计,利用薄膜技术和现代微加工技术,针对不同靶结构和靶材料性质,选择合适的工艺技术方案,并进行各种与制靶工艺、质量检测密切相关的多种近代测试分析工作,以保证提供满足实验要求的各种X光激光靶。 性能指标:目前已能提供以下各种材料及规格靶的技术: 1、厚锗平面靶; 2、锗薄膜靶; 3、均匀掺铝锗靶; 4、铜镶嵌锗靶。各项性能指标均能达到不同实验对靶的要求。 用途:可用于X光激光实验、双脉冲X光激光实验、等离子体状态诊断实验、限制X光激光宽度的实验等场合,通过改变结构和工艺可应用于其它特殊的实验。 通过国家高技术863专家组鉴定。 |
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