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所属分类: |
测量测试 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
所在地域: |
上海 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
该发明专利是一种极弱静电荷电量的测量方法,特别适用于荷电量小于10-16 库仑的弱电场的测量,待测样品厚度小于或等于500nm 。 首先将待测样品置于电子显微镜中,拍摄待测样品的电子全息图,再将在电子显微镜中拍好的、带有待测样品电子全息图的电子干板,置放在光学马赫一陈特尔干涉仪上,进行位相差放大,获得干涉图,读取干涉图中的干涉条纹数,就可以获得待测样品的电场及荷电量。 与在先技术相比,该测量方法的灵敏度较高,能够测量极弱微电场及其荷电量。
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