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| 所属分类： |
仪器仪表 |
项目来源： |
自创 |
| 技术持有方姓名： |
中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
所在地域： |
上海 |
| 是否中介： |
否 |
是否重点项目： |
否 |
技术简介：
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其特征是：该反射型微镜是将硅的干法刻蚀和各向异性腐蚀相结合在绝缘层上的硅材料上制作的。具体步骤是：1、在绝缘层上的硅上生长一层可用于硅的各向异性腐蚀的掩模；2、在掩模上光刻出制作镜子的窗口；3、利用步骤2中的光刻胶或已经光刻出镜子窗口的掩模作掩模进行硅的干法刻蚀，刻蚀出垂直、相对光滑的镜面；4、在各向异性腐蚀液中腐蚀，而制成垂直、光滑的镜面。
该专利的优点在于镜面光滑，可在更小区域内制作面积足够大的镜面，无用区域小以及工艺简单，仅增加一步干法刻蚀工艺。
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