全站仪观测点中孔双面式靶标<%=id%>

所属分类：	控制调节	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院武汉岩土力学研究所	所在地域：	湖北
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该专利是一种作为观测点埋件配合全站仪进行位移监测的靶标。该靶标主要由金属底板、反光膜、靶心孔、靶环圈图案、膨胀螺栓组成。反光膜粘贴在金属底板两边，前后反光膜上的靶环图案与金属底板对称，其中心落在靶心孔上。底板两边反光膜上的靶环圈图案中心通过靶心孔连结。它可以设置在地下隧道、洞库内，也可以设置在行何露天建筑物和设施上，是一种适合于大量使用，且观测效果佳、成本价格低的埋设装置，尤其适合于地下隧道和洞库施工期围岩变形监测中使用。