光刻物镜自动气压补偿装置<%=id%>

所属分类：	控制调节	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院光电技术研究所	所在地域：	四川
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该实用新型专利为一种光刻物镜自动气压补偿装置，它克服了现存技术只能对数值孔径不大的物镜进行环境气压引起的焦面漂移补偿的缺陷。它由内部通道连通光刻物镜内的各透镜而形成与外界大气隔绝的内腔，并采用压力传感器检测和单片机控制电路控制内腔气压的方式，使其达到设定值或零偏差值。该光刻物镜自动气压补偿装置可用于对数值孔径较大，工作波长较短的光刻物镜受环境气压影响引起的焦面、倍率和畸变漂移进行控制。