技术简介：
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本研究室已开发出一系列用于离子镀膜、离子刻蚀、离子注入、辅助镀膜、离子清洗等工艺中的离子源、以及离子源用电源。研制的离子源产品有：
1.冷阴极离子源：研制的冷阴极离子源具有结构简单，引出束流大的特点。目前已有引出口径为6 , 9 和20x5的离子源产品提供给客户，引出束流分别有几十到几百，放电电流几百到几，引出电压可以提供有100 一1500可调和500-30 可调的2 种电源，在离子束照射的有效范围内不均匀性小于10 % ，稳定度为10 ％。
2.热阴极离子源：热阴极气体离子源产品目前有6 , 9 , 12 , 16 , 20和20x5引出口径的成品，引出束流几十到几，放电电流几百到几 ，引出电压可以提供有100 一1500 可调和500 一30 可调2 种电源，在离子束照射的有效范围内不均匀牲小于10% ，稳定度为10 ％。
该源被广泛应用于辅助镀膜，离子刻蚀，离户清洗等工艺。
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