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    高压脉冲自生等离子体全方位离子注入<%=id%>


    所属分类: 新型材料 项目来源: 自创
    技术持有方姓名: 大连理工大学 所在地域: 辽宁
    是否中介: 否  是否重点项目: 否 
    技术简介:
    本系统根据帕邢放电定律,在低真空条件下,将数万伏负高压脉冲加于待处理的工件上(作为阴极),在特定的气体氛围下,工件表面产生一层致密等离子体与鞘层,在强脉冲场作用下,离子加速向工件表面运动,最终以数万电子伏特的能量流入工件表面,达到表面改性的目的。
    这种全方位离子注入最主要的特点是:(1)鞘层很薄,因而保形特性好,即便是形状相当复杂的工件也可以做到均匀注入;(2)不需另行建立等离子体源,因而设备大为简化,易于操作与维护,特别适合在工业上推广应用。
         

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