金刚石薄膜<%=id%>

所属分类：	新型材料	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	重庆大学	所在地域：	重庆
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	我校利用热灯丝CVD微波等离子体CVD等方法在Si单晶、Ni、Wc等衬底材料上成功的合成了金刚石薄膜。其性质与天然金刚石十分接近，其硬度达10000kg/mm2（维氏硬度），电阻率接近1012Ω-Cm，并耐高温、防腐蚀、抗辐射，可广泛用于机械、电子、光学、航空航天等工业部门。金刚石膜合成设备由我校自行设计，工艺成熟，操作十分简单，成本低廉，所以容易实现大规模生产。