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所属分类: |
新型材料 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
中国科学院成都有机化学研究所 |
所在地域: |
四川 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
类金刚石膜(DLCD)是一种新型材料,具有类似天然金刚石的许多性质,如硬度高、摩擦系数低、透过率高、导热好、高绝缘、化学性质稳定等特性。该材料广泛应用于机械、磁记录技术、光电、激光、太阳能、生物医学工程;也可用于金属膜硬磁盘、磁带的抗磨、润滑保护、KCI红外窗口材料抗潮、复印机感光鼓表面增硬、涂层量块、涂层刀具、电子模具装饰保护等。 该技术采用等离子体气相沉积,在低温、低压条件下,在不同基体表面上合成类金刚石膜料。等离子体由直流、交流、射频或微波激发产生。其装置简单、工艺简便、易于工业化。 该项目技术设备投资50万元,产值、效益视不同基体表面上合成材料而不同。以温彻斯特技术磁盘机硬盘片计算,1、原料成本50元/片;2、综合成本80元/片;3、售价120元/片;4、利税40元/片。如建厂规模达50万片/年,总投资为500万元;设备投资需300万元。年税利可达2000万元。该项目主要设备为化学镀膜设备、去离子水设备、过滤机、研磨机等;主要原料为化学药品、气体、磨料、盘基。 |
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