新型低温等离子体沉积高质量薄膜材料技术<%=id%>

所属分类：	新型材料	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	兰州大学科技处	所在地域：	甘肃
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该技术是目前国际上最新型低温等离子体镀膜及材料表面处理技术。其基本原理是通过磁等离子体管的过滤，使阳极弧放电产生的大颗粒粒子、中性粒子都得到限制，而最终获得同一质量、同一能量的离子，进而形成高质量的薄膜材料。国际上已将其用到高级精密透镜表的处理、磁盘面的保护上。由于沉积薄膜都是同一质量和能量的离子，所以也可以用薄膜沉积微观过程基理的研究。