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铜及铜合金的腐蚀和缓和缓蚀机理的光电响应和表面结构研究<%=id%> |
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所属分类: |
石油化工及冶金 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
上海市平凉路2103号 |
所在地域: |
上海 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
研究铜及铜合金的腐蚀机理对于提高发电厂的安全、经济运行水平有很大意义。用光电化学方法研究铜表面钝化膜可以得到其它方法所难以获得的信息。通过光电化学研究首次指出铜电极光电响应从P-型转变为n-型是由于氯离子对氧化亚铜膜的的掺杂;缓蚀剂的作用归因于它和铜生成的络合物与氧化亚铜膜之间有强烈的作用致使氧化亚铜膜的稳定性增加,缓蚀剂的效果取决于它对氧化亚铜膜的稳定能力;光电位法和光电流法均可有效地评价铜缓蚀剂;通过光电化学、交流阻抗等电化学方法和XPS、AES等表面分析方法研究铜的腐蚀和缓蚀机理,揭示了铜缓蚀剂的作用本质。
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