磁控溅射及多弧镀靶材<%=id%>

所属分类：	生物化学	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院金属研究所	所在地域：	辽宁
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	用于磁控溅射镀茶色玻璃的高纯铬靶（板状、圆柱状），现在用真空感应熔炼铸造法生产，提高了质量（纯度达99.5%以上），降低了成本，供给国内、外厂家使用。多弧氮化钛铝镀用于刃具及装饰行业，硬度高、韧性好、抗氧化温度高，可提高刀具寿命5-7倍。为其使用的Ti-Al（5、10、30%）合金靶材，用特种真空感应熔铸造技术生产，规格齐全，价廉物美，销往国内外使用。