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| 所属分类： |
生物化学 |
项目来源： |
自创 |
| 技术持有方姓名： |
HKUST RandD Corp Ltd |
所在地域： |
港澳台 |
| 是否中介： |
否 |
是否重点项目： |
否 |
技术简介：
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脉冲镭射沈积（PLD）是一项优良的薄膜技术，可应用于多种材料的储存。这些材料多半是无线物和晶体。到目前为止它还未被应用于有机材料，特别是Alq3。本项发明的目的便是探索如何将PLD用于涉及有机化合物和其他材料的单层和多层薄膜。
这项发明揭示了将PLD用于沈积诸如Alq3等有机薄膜的方法。研究表明PLD可用于沈积质量相当好的Alq3薄膜。用PLD可将这一重要有机物的分子结构和发光特性完好保存。由于PLD还能用于沈积其他材料，因此这项发明的意义在于它提供了培养多层有机薄膜和其他材料的可能性。而且，我们可以用量子势阱装置培养有特殊光学用途的极薄的薄膜。
适用范围：该发明适用于Alq3薄膜这一重要的有机发光材料。
比现有技术的优越性：该技术能形成多层不同材料，而现有技术不能。
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