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可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法<%=id%> |
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所属分类: |
石油化工及冶金 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
中国科学院感光化学研究所 |
所在地域: |
北京 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
该发明是一种可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜的制法。这种有机基底双层膜特征为在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层,再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层。其中惰性氧化物涂层厚度在0.1--100微米,半导体光催化剂涂层厚度为0.1--100微米。其制法是用旋转涂膜法先制备有机物基底表面惰性氧化物涂层,再在上面用旋转涂膜法涂覆半导体涂层即制得有机基底双层膜。这种膜能够有效降解表面有机污垢,并对有机物基底没有任何破坏作用。 |
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