等离子体化学气相沉积硬膜技术<%=id%>

所属分类：	石油化工及冶金	项目来源：	成果推广计划
技术持有方姓名：	青岛化工学院等到离子体涂层技术中心	所在地域：	山东
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	等离子体化学气相沉积（PCVD）硬膜技术是利用等离子体的激发作用，把传统的化学气相沉积（CVD）的温度由1000℃左右降到550℃左右，从而使PCVD兼有CVD的良好的绕镀性和物理的气相沉淀（PVD）的低温镀膜的特点，建成了φ100x1500mm的管式PCVD机和φ420x450mm钟罩式PCVD机各一台，在世界上第一个使PCVD硬膜技术达到实用水平，成功地应用于工业生产，生产过程自动化，产品合格率≥90%，质量稳定。该技术适用于在高速钢类材料表面涂镀硬质膜，特别适于复杂刀模具的涂镀加工，提高刀具，轴承和其他机械零部件的耐磨耐蚀性能，显著提高其使用奉命，φ 6mm钻头涂镀PCVD硬膜后，使用寿命提高3倍以上，涂镀成本低于引进PVD成本的1/3到1/2。