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| 所属分类： |
综合其他 |
项目来源： |
自创 |
| 技术持有方姓名： |
上海交通大学 |
所在地域： |
上海 |
| 是否中介： |
否 |
是否重点项目： |
否 |
技术简介：
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该厚膜光刻胶低温金属化制备技术是在聚合物膜片（如聚甲基丙烯酸PMMA）的一侧表面，采用磁控溅射等方面，低温沉积厚度为10纳米-100纳米的金属层，然后将所得金属化膜片以金属化侧面与金属或玻璃基底粘合，再对聚合物膜片进行减薄。金属导电性支撑层可以是单金属薄膜，也可以是金属或合金的多层膜。
该成果解决了现有技术中厚胶内应力大、粘合效果不理想的难题，工艺稳定可靠，提高了制备效率和成品率。
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