化学气相沉积（PCVD）镀膜系统<%=id%>

所属分类：	综合其他	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中科院信息咨询中心	所在地域：	北京
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该产品是用于在超高真空环境下制备或研究硅、锗等薄膜材料和器件的多功能外延生长设备。其具有较宽的生长温度和真空范围，配置反射式高能电子衍射仪和RHEED强度振荡电源直接在外延生长过程中实施原位监测，对低温硅片外延有着重要意义。该设备目前处于国内领先水平。性能可靠、结构先进、达到了用户要求。