| 专利名称 |
矩形平面多弧靶（真空多弧离子镀膜机） |
| 专利号： |
zl03249251.0 |
| 专利类型 |
实用新型 |
| 专利权人： |
chang |
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联系人 |
常鸿
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电话 |
02885063148
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| 传真 |
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OICQ |
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| 手机 |
13551058078
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E-mail |
[email protected]
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| 联系地址 |
四川乐山15信箱医院 |
| 所处省份 |
四川
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成都 |
| 专利领域 |
新材料 |
| 技术水平 |
国际领先 |
| 所处阶段 |
小试阶段 |
| 专利说明及技术指标 |
111
中国创业投资网（www.wineast.com） |
| 应用前景 |
在多弧离子镀膜设备中矩形平面电弧靶结构简单，安装容易；弧斑在封闭磁跑道作有规律运动，易控制，弧斑靶面位移长，刻蚀区域大，镀膜均匀区宽，镀膜工艺重复性好；矩形平面多弧靶安装在真空室壁，可以充分利用真空室空间；一台镀膜机只须安装一个矩形平面多弧靶、只配一个弧电源、一个引弧装置，操作者只需引一次弧，只关心一个弧源的放电情况，操作方便故障率低；镀膜机整机造价成本低。 |
专利人/单位
介绍或备注 |
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| 转让与许可方式 |
合作开发 |
| 其他合作方式 |
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