一种利用微区覆膜进行缺陷分析的方法<%=id%>

.本发明提供一种利用微区覆膜进行缺陷分析的方法，该方法包括提供一基板，其上包括至少一缺陷，于该缺陷的表面制作该微区覆膜，再确认该缺陷的位置后，利用一聚焦离子束显微镜制作该缺陷的一试片。
. 主权项　.
.权利要求书 1.一种利用至少一微区覆膜进行缺陷分析的方法，该进行缺陷分析的方法包括：提供一基板，该基板之上包括至少一缺陷；于该缺陷的表面制作该微区覆膜；确认该缺陷的位置；以及利用一聚焦离子束显微镜制作该缺陷的一试片。.
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