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人:. 顾勇华 . . 摘要 . .本发明涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法,属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明的制备方法是先制备α-Al2O3分散液:于去离子水中加入一定量的α-Al2O3及分散剂六偏磷酸钠,搅匀,后加入稀碱和稀酸溶液,调节PH值为9,采用超声分散和球磨分散;然后加热至反应温度80~100 ℃,再在α-Al2O3分散液中加入一定量的Na2SiO3和稀H2SO4,反应完毕后陈化2小时,然后离心分离、提纯、烘干,最终制得包覆有SiO2的氧化铝/氧化硅复合磨粒。由该复合磨粒配制成的抛光液,对计算机硬盘基片和光盘玻璃基片进行抛光,可明显降低表面的粗糙度和波纹度。 . 主权项 . .
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