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.. 理.. 人:. 马应森 曾 权 . . 摘要 . .集成电路反剥离光刻方法,涉及一种集成电路光刻方法,尤其是涉及一种采用改进的反剥离工艺的集成电路光刻方法。提供一种改进的集成电路反剥离光刻方法。其步骤为在硅片表面先后涂增粘剂层和反转光刻胶层后烘胶,烘胶后在硅片表面再次涂反转光刻胶层,前烘后掩膜曝光,用掩膜板遮挡;反转烘后泛曝光,再显影,淀积金层,金厚度为2μm;将溅射好金的硅片用丙酮浸泡至少4h;将浸泡过丙酮的硅片放入超声仪中进行超声剥离。解决了业内一直没有解决的在金膜较厚情况下反剥离工艺技术问题,通过工艺流程与工艺条件的改进,尤其是在涂胶工艺中,采用先涂一层胶,然后烘干后再涂第二层的工艺,显著地加厚了光刻胶的厚度,使反剥离工艺得到改进。 . 主权项 . .1、集成电路反剥离光刻方法,其特征在于其步骤如下: 1)在硅片表面涂增粘剂层; 2)在硅片表面增粘剂层上涂反转光刻胶层; 3)烘胶:温度为90~100℃,时间为5min~10min; 4)烘胶后在硅片表面再次涂反转光刻胶层,反转光刻胶层厚度为1.7~1.9μm; 5)前烘:温度为92~100℃,时间为10~12min; 6)掩膜曝光:曝光时间为9.8s,用掩膜板遮挡; 7)反转烘:温度为85~90℃,时间为10~15min; 8)泛曝光:时间为10.1s; 9)显影:时间为60~80s; 10)淀积金层:金厚度为1.8~2.2μm; 11)将溅射好金的硅片用丙酮浸泡至少4h; 12)将浸泡过丙酮的硅片放入超声仪中进行超声剥离。
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