纳米线、纳米线的生产方法和该纳米线的应用<%=id%>

颁证日：
优先权： 2001.9.6 JP 270808/2001
申请(专利权)人：富士施乐株式会社
地址：日本东京
发明 (设计)人：吉沢久江;岸健太郎;堀内一永;清水正昭
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
代理人：黄健
摘要
　一种纳米线，包含内芯部分12和形成在内芯部分12周围的功能层14，其中内芯部分12由具有至少一层石墨片12a、12b的碳纳米管制成，并且功能层14具有至少一层改性的石墨片，其中的石墨片已被改性；此纳米线的生产方法；使用此纳米线的纳米网；此纳米网的生产方法；使用此纳米线的碳结构以及使用此纳米线的电子装置。
主权项
　权利要求书 1、一种纳米线，包含：内芯部分，此内芯部分中具有一碳纳米管，此碳纳米管中具有至少一层石墨片；和功能层，此功能层形成在内芯部分的周围并且具有至少一层改性石墨片。

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