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颁 证 日：
优 先 权：
2001.8.29 JP 259237/2001
申请(专利权)人：
住友化学工业株式会社;东友法肯株式会社
地 址：
日本大阪市
发 明 (设计)人：
金相奏;康升镇;成始震;末次益实
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
北京集佳专利商标事务所
代 理 人：
王学强
摘要
本发明涉及一种光刻胶组合物，具有优良的基质和光刻胶界面的紧密粘着性，解决了湿蚀刻中的问题，具有优良的敏感度和分辨率，并且具有优良的光刻胶性能，它含有公式(I)所表示的化合物；其中，R1和R2分别表示一个氢原子或者一个烷基，R3则表示一个氢原子、烷基、芳基、芳烷基、卤代烯烃、羰烷基、羰芳基或者羰芳烷基；n表示1到40之间的一个整数，m表示1到5之间的一个整数，l表示1到5之间的一个整数。
主权项
权利要求书
1.一种光刻胶组合物，含有下面通用公式(I)所表示的化合物：
其中，R1和R2分别表示一个氢原子或者一个烷基；假设烷基、芳基、
芳烷基、卤代烯烃、羰烷基、羰芳基和羰芳烷基能够选择性地替换一
个羧基、氧化羰基、羟基、烷氧基或者烷基，R3则表示一个氢原子、
烷基、芳基、芳烷基、卤代烯烃、羰烷基、羰芳基或者羰芳烷基；n
表示1到40之间的一个整数，m表示1到5之间的一个整数，l表示
1到5之间的一个整数。
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