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    非挥发性内存的结构<%=id%>

    底、一堆栈栅结构以及一源/漏极区。其中,堆栈栅结构位于基底上,源/漏极区位于堆栈栅结构两侧的基底中,且基底内有一垂直阶梯信道掺杂轮廓。此垂直阶梯信道掺杂轮廓分为基底表面下的第一掺杂区,以及位于第一掺杂区下且紧临第一掺杂区的第二掺杂区,其中第二掺杂区的浓度高于第一掺杂区。
    主权项
      权利要求书 1.一种非挥发性内存的结构,其特征为:包括: 一基底,该基底中具有一垂直阶梯式信道掺杂轮廓,该垂直阶梯 式信道掺杂轮廓分为位于该基底表面下的一第一掺杂区,以及位于该 第一掺杂区下且紧临该第一掺杂区的一第二掺杂区,其中该第二掺杂 区的掺杂浓度高于该第一掺杂区; 一堆栈栅结构,位于该基底上; 一源/漏极区,位于该堆栈栅结构两侧的该基底中。
         

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