用于深紫外线辐射的光刻胶组合物<%=id%>

摘要
　本发明涉及在深紫外线区域敏感的新型光刻胶组合物，其中光刻胶对在光刻胶的处理环境中的碱污染物不敏感。
主权项
　权利要求书 1.光刻胶组合物，包括以下物质的混合物： a)不溶于碱水溶液且包括至少一个酸不稳定基团的聚合物； b)在辐射时能够产生酸的化合物或化合物的混合物； c)选自硫鎓和碘鎓化合物中的至少一种感光碱性化合物；和 d)溶剂组分。

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